Review of the potential of the Ni/Cu plating technique for crystalline silicon solar cells
En este documento se ofrece una revisin̤ detallada sobre el electroplateado de Ni/Cu para celdas solares de silicio. Se evala͠ la formacin̤ de una capa semilla de Ni mediante diversas tčnicas de deposicin̤ y de una capa conductora de Cu usando un proceso de deposicin̤ inducida por luz. A diferencia...
保存先:
| その他の著者: | , , |
|---|---|
| フォーマット: | 図書 |
| 言語: | 英語 |
| 主題: | |
| オンライン･アクセス: | Review of the potential of the Ni/Cu plating technique for crystalline silicon solar cells |
| タグ: |
タグ追加
タグなし, このレコードへの初めてのタグを付けませんか!
|
| 要約: | En este documento se ofrece una revisin̤ detallada sobre el electroplateado de Ni/Cu para celdas solares de silicio. Se evala͠ la formacin̤ de una capa semilla de Ni mediante diversas tčnicas de deposicin̤ y de una capa conductora de Cu usando un proceso de deposicin̤ inducida por luz. A diferencia de la metalizacin̤ de impresin̤ serigrf̀ica (screen printing), es crucial un paso de diseǫ (patterning) para abrir la capa de enmascarado (masking layer), por lo cual se explican procedimientos experimentales que relacionados. |
|---|---|
| ISSN: | 1996-1944 |