Direct Electroless Copper Plating on Glass Mediated by Solution-Phase Deposition of Nucleation and Adhesion Promoters

Las interfaces metal-dielčtrico se encuentran comn͠mente en varias aplicaciones electrn̤icas, entre ellas tarjetas de circuitos impresos y aparatos integrados. Mientras que las aplicaciones exigen una adhesin̤ interfacial fuerte, la adhesin̤ intrn̕seca entre pelc̕ulas metl̀icas y sustratos dielčtr...

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अन्य लेखक: Miller Alexander T., OhioLINK
स्वरूप: पुस्तक
भाषा:अंग्रेज़ी
विषय:
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246 |a Cobreado qum̕ico directo sobre vidrio mediado por la deposicin̤ de promotores de nucleacin̤ y adhesin̤ en fase solucin̤ 
264 |a Bogot ̀(Colombia) :  |b Revista VirtualPRO,  |c 2016 
520 3 |a Las interfaces metal-dielčtrico se encuentran comn͠mente en varias aplicaciones electrn̤icas, entre ellas tarjetas de circuitos impresos y aparatos integrados. Mientras que las aplicaciones exigen una adhesin̤ interfacial fuerte, la adhesin̤ intrn̕seca entre pelc̕ulas metl̀icas y sustratos dielčtricos es frecuentemente inferior en comparacin̤ con la adhesin̤ metal-metal.En esta investigacin̤ se usaron promotores de nucleacin̤ y adhesin̤ para mejorar la adhesin̤ interfacial entre vidrio y capas de cobre depositadas electroqum̕icamente. La optimizacin̤ de la adhesin̤ de pelc̕ulas gruesas de cobre (>10 <U+00CE>ơm) se vio facilitada por una capa interfacial de Pd-TiO2 depositada empleando una secuencia de deposicin̤ hm͠eda, la cual se vali ̤de sustratos funcionalizados monocapa y autoensamblados de vidrio para mejorar la humectabilidad de superficie durante la deposicin̤ de Pd-TiO2. 
650 \ \ |a Materiales 
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