Sputtering en la descarga luminiscente anormal a 800 ʻC
Durante los procesos de tratamiento superficial o de sinterizacin̤ en el ct̀odo de una descarga luminiscente anormal es inevitable la presencia del sputtering, debido al bombardeo de la superficie de la pieza por iones y especies neutras rp̀idas. En este trabajo se reporta el sputtering sufrido por...
Збережено в:
| Інші автори: | , , , |
|---|---|
| Формат: | Книга |
| Мова: | Іспанська |
| Предмети: | |
| Онлайн доступ: | Sputtering en la descarga luminiscente anormal a 800 ʻC |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|