Sputtering en la descarga luminiscente anormal a 800 ʻC
Durante los procesos de tratamiento superficial o de sinterizacin̤ en el ct̀odo de una descarga luminiscente anormal es inevitable la presencia del sputtering, debido al bombardeo de la superficie de la pieza por iones y especies neutras rp̀idas. En este trabajo se reporta el sputtering sufrido por...
Đã lưu trong:
| Tác giả khác: | , , , |
|---|---|
| Định dạng: | Sách |
| Ngôn ngữ: | Tiếng Tây Ban Nha |
| Những chủ đề: | |
| Truy cập trực tuyến: | Sputtering en la descarga luminiscente anormal a 800 ʻC |
| Các nhãn: |
Thêm thẻ
Không có thẻ, Là người đầu tiên thẻ bản ghi này!
|