Propiedades morfolg̤icas y estructurales de recubrimientos nitruro de titanio aluminio producidos por magnetron sputtering tro̕do

Se crecieron recubrimientos de TixAl1-xN empleando la tčnica de magnetron sputtering tro̕do, variando el voltaje de polarizacin̤ entre -40 V y -150V. Por medio de espectroscopa̕ de energa̕ dispersiva, difraccin̤ de rayos x y microscopa̕ de fuerza atm̤ica, se analiz ̤la influencia del voltaje de pol...

Бүрэн тодорхойлолт

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Номзүйн дэлгэрэнгүй
Бусад зохиолчид: Devia D M, Restrepo Parra E, Vľez Restrepo J M, Universidad EAFIT
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Тодорхойлолт
Тойм:Se crecieron recubrimientos de TixAl1-xN empleando la tčnica de magnetron sputtering tro̕do, variando el voltaje de polarizacin̤ entre -40 V y -150V. Por medio de espectroscopa̕ de energa̕ dispersiva, difraccin̤ de rayos x y microscopa̕ de fuerza atm̤ica, se analiz ̤la influencia del voltaje de polarizacin̤ sobre las propiedades morfolg̤icas y estructurales de los recubrimientos. A medida que el voltaje bias se increment,̤ se observ ̤un aumento en el porcentaje atm̤ico de Al, compitiendo con la concentracin̤ de Ti y produciendo cambios estructurales. A bajas concentraciones de Al, la pelc̕ula exhibi ̤una estructura cristalina FCC; sin embargo, a medida que le porcentaje de Al disminuy,̤ se pudo detectar una mezcla de fases FCC y HCP. Por otro lado, el incremento en el voltaje de polarizacin̤ produjo una disminucin̤ en el espesor de las pelc̕ulas, debido al aumento en el nm͠ero de colisiones. Adems̀, el tamaǫ de grano y la rugosidad se vieron fuertemente afectados por el voltaje bias.
ISBN:2256-4314 (Versin̤ electrn̤ica); 1794-9165 (Versin̤ impresa)