Recubrimientos depositados por CVD-FBR para proteccin̤ a alta temperatura
La deposicin̤ qum̕ica de vapor por lecho fluidizado (CVD-FBR) es una variante de la tčnica de deposicin̤ qum̕ica de vapor que combina las ventajas de la activacin̤ třmica por calentamiento y el lecho fluidizado. Los recubrimientos mediante CVD-FBR son ampliamente investigados y usados debido a la...
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| Format: | Bog |
| Sprog: | spansk |
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| Summary: | La deposicin̤ qum̕ica de vapor por lecho fluidizado (CVD-FBR) es una variante de la tčnica de deposicin̤ qum̕ica de vapor que combina las ventajas de la activacin̤ třmica por calentamiento y el lecho fluidizado. Los recubrimientos mediante CVD-FBR son ampliamente investigados y usados debido a la necesidad de proteger superficialmente los componentes que operan a altas temperaturas. Adems̀, tiene la ventaja de ser una tčnica de bajo costo y se puede controlar con relativa facilidad la composicin̤ del material depositado. |
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| ISSN: | 0012-7353 |