Recubrimientos depositados por CVD-FBR para proteccin̤ a alta temperatura

La deposicin̤ qum̕ica de vapor por lecho fluidizado (CVD-FBR) es una variante de la tčnica de deposicin̤ qum̕ica de vapor que combina las ventajas de la activacin̤ třmica por calentamiento y el lecho fluidizado. Los recubrimientos mediante CVD-FBR son ampliamente investigados y usados debido a la...

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Muut tekijät: Marulanda Arv̌alo Jos ̌Luddey, Castaęda Quintana Sal͠, Remolina Millǹ Aduljay, Universidad Nacional de Colombia
Aineistotyyppi: Kirja
Kieli:espanja
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Yhteenveto:La deposicin̤ qum̕ica de vapor por lecho fluidizado (CVD-FBR) es una variante de la tčnica de deposicin̤ qum̕ica de vapor que combina las ventajas de la activacin̤ třmica por calentamiento y el lecho fluidizado. Los recubrimientos mediante CVD-FBR son ampliamente investigados y usados debido a la necesidad de proteger superficialmente los componentes que operan a altas temperaturas. Adems̀, tiene la ventaja de ser una tčnica de bajo costo y se puede controlar con relativa facilidad la composicin̤ del material depositado.
ISSN:0012-7353