Effect of Wall Shear Stress on Corrosion Inhibitor Film Performance

Esta investigacin̤ se compone de dos partes. En la primera de ellas se estudi ̤el comportamiento electroqum̕ico de dos inhibidores de corrosin̤ orgǹicos <U+0097>un imidazolinio de TOFA/DEFA y un cloruro de alquilbenzil dimetil amonio<U+0097> con y sin una sal orgǹica <U+0097>tios...

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その他の著者: Canto Maya Christian M., OhioLINK
フォーマット: 図書
言語:英語
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要約:Esta investigacin̤ se compone de dos partes. En la primera de ellas se estudi ̤el comportamiento electroqum̕ico de dos inhibidores de corrosin̤ orgǹicos <U+0097>un imidazolinio de TOFA/DEFA y un cloruro de alquilbenzil dimetil amonio<U+0097> con y sin una sal orgǹica <U+0097>tiosulfato de sodio<U+0097>, y la mejora resultante.En la segunda parte se explor ̤el desempeǫ del inhibidor de corrosin̤ bajo flujo multifase (gas/lq̕uido, sl̤ido/lq̕uido). Se estudi ̤el efecto del flujo gas/lq̕uido usando instrumentos de pequeą y gran escala. Para los primeros se condujeron ensayos con celdas de vidrio y un accesorio de incidencia de chorro sumergido con tres patrones hidrodinm̀icos distintos: chorro de agua, impacto de burbujas de CO2 y cavitacin̤ de vapor de agua. Los experimentos a gran escala se llevaron a cabo aplicando bucles de flujo diferentes.